为什么电子半导体行业需要水处理？

制造电子半导体对水的质量要求很高。半导体生产涉及精密化学反应和物理过程，杂质、离子、微生物等会污染产品，影响产品的性能、稳定性和可靠性。因此有必要使用水处理器具去除水中的杂质，以保证生产用水的纯度。例如，在电子半导体行业中，超纯水设备通过各种高精度、高精度的处理、技术，如预应力过滤、反过滤和树脂离子交换等，达到去除水中杂质、离子和生物的效果，保证超纯水生产具有极
高的电阻率。这种超纯水广泛应用于生产半导体的清洗、雕刻、涂膜和搅拌等重要环节，是保证半导体产品性能和质量的重要因素。

电子半导体工业解决方案

1. 多介质/活性炭过滤系统：

在制造业中

多媒体过滤器通常用于水处理的初始阶段，通过多种介质的组合，有效地去除水中的悬浮物、胶体、颗粒和各种杂质，为后续处理提供清洁的水。这一步对于保护后续加工设备，提高整体加工效率至关重要。

活性炭过滤器主要用于去除水中的有机物、气味、色素和其他杂质。活性炭具有很强的吸附能力，可以吸附和去除水中的污染物，从而提高水的纯度。这一步对于保证超纯水的质量和稳定性至关重要。

通过多媒体过滤器和活性炭过滤器的结合，可以有效去除水中的大部分杂质，进行进一步的高级处理（如反渗透、离子交换等），提供良好的基础质量。这有助于确保电子半导体行业生产过程中所需的超纯水的质量和稳定性，从而提高产品的性能和可靠性。

技术原理

多媒体过滤技术的原理主要是利用一种或多种过滤介质进行深度过滤，去除水中的液体杂质。当原水从上至下通过滤料时，大颗粒在顶层被去除，而小颗粒在过滤介质中较深处被去除。这主要取决于滤料层的吸收和机械阻力，以及沙粒排列的密实度，使水中的颗粒更容易与沙粒碰撞而被阻挡。经过这样的处理，可以使水中的液体保持在较低的水平，保证水质的清澈。

活性炭过滤器的技术原理主要是基于活性炭的吸附。活性炭具有巨大的表面积和复杂的孔隙结构，具有很强的吸附能力。当水通过活性炭过滤器时，水中的有机物、气味、颜色和其他污染物被活性炭表面吸收并有效去除。此外，活性炭还可以去除水中的氯，保证后续处理设备的正常运行。

我们能取得什么成就？

首先，多媒体过滤器作为预处理设备，其多组合介质的设计使其能够有效地去除水中的粘合剂、颗粒和大杂质。这对于保护后续的水处理设备和工艺，确保整个水处理系统的稳定运行至关重要。通过这一步骤，可以为电子半导体行业提供初始的洁净水，减少杂质对生产过程的潜在影响。

其次，过滤活性炭利用其强大的吸附能力，进一步去除水中的有机物、异味、色素等杂质。如果不除去这些杂质，它们可能会对电子半导体产品的质量和性能产生不利影响。活性炭过滤的应用可以大大提高水的纯度，满足高品质电子半导体行业的严格要求。

2. 超滤系统:

在生产中

首先，在清洗过程中，膜可以有效去除水中的颗粒和离子，是一种高品质的超纯水处理工艺。这类超纯水用于清洗半导体设备和器件，保证产品表面的清洁，避免污染物对产品性能和可靠性的影响。

其次，超滤技术是制造液体的常用技术。在半导体制造过程中，必须使用酸、钾、有机溶剂等技术流体。超滤膜可以过滤和清洁液体，去除杂质和颗粒，并确保液体的质量和纯度满足生产要求。

此外，超声波过滤技术在设备冷却水循环中也起着重要的作用。半导体制造设备在运行过程中会产生大量的热量，需要冷却水来冷却热量。超滤膜可以去除冷却水中的颗粒和离子，防止杂质损坏设备，保证设备的正常运行，保证产品的稳定性。

技术原理

超声波过滤器的技术原理主要是基于压力控制的膜分离过程。其核心是使用一种特殊直径的半透膜，称为超滤膜，以防止水中相对较高的胶体，颗粒和分子量，而水和小溶剂颗粒可以穿透膜。

超滤膜伸长率为20 ~ 1000A度，过滤距离为0.002 PM ~ 0.2 PM，能有效抑制直径大于0.02 PM的颗粒，如蛋白质、果胶、脂肪、细菌等。不同材质和结构的过滤膜具有不同的效果和应用，因此需要选择适合特定应用需求的过滤膜。同时，压力、转速、温度等工况也会影响超滤效果，需要优化控制。

我们能达到什么样的结果?
首先，超声波过滤系统提供纯净水。在电子半导体的制造过程中，对水质有很高的要求，任何微小的杂质都会严重影响产品的质量和性能。超滤系统采用高效过滤能力，可有效去除水中的颗粒、凝胶、细菌等杂质，保证工艺中水的纯度，满足电子半导体生产过程中的高品质要求。

其次，超滤系统可以保护生产设备。由于超滤系统可以为工艺提供纯净水，因此有助于减少制造设备中由腐蚀和污垢引起的质量问题，从而延长设备的使用寿命，降低维护成本。

最后，过滤系统也有助于创造环境和可持续发展。通过有效地去除水中的污染物，超滤系统可以降低废水处理的难度和成本，并将其对环境的影响降至最低。同时，超滤系统的应用也有助于推动电子半导体行业朝着更环保和可持续的制造方法发展。

3. 反渗透膜系统：

在制造业中

反渗透膜在半导体工业中主要应用于超纯水的生产过程中。在电子半导体制造过程中，超纯水被广泛用于硅片、芯片等重要部件的清洗，有效去除表面颗粒和有机物，降低产品缺货率。反渗透膜可提供稳定、低张力的去离子水，满足半导体行业的高质量要求。

此外，反渗透膜技术还可以提供高质量的净水，保证组件的可靠性和稳定性。利用反渗透膜的特性，可以精确控制水质，满足电子半导体制造工艺对超纯水的严格要求。

技术原理

反渗透膜通常是人工合成的半透膜，尺寸非常小，可以有效地防止盐、有机物、重金属离子等杂质在水中分解，同时允许水分子通过。如果在浓溶液的一侧施加大于渗透压的压力，溶剂就会向与原来渗透方向相反的方向流动，开始从浓溶液一侧流向稀溶液一侧。这个过程被称为反渗透。此时，压力下的溶剂通过反渗透膜，溶液被膜阻挡，达到分离纯化的目的。

我们能取得什么成就？

首先，反渗透膜可以有效去除水中的细菌、有机物、金属等杂质，保证超纯水的质量和稳定性。这种高纯度的水在电子半导体的制造过程中是必不可少的，用于清洁硅和芯片等重要部件，有效去除表面颗粒和有机物，降低产品不良率，从而提高产品质量和性能。

其次，反渗透膜技术的使用减缓了因水质波动引起的水质变化，从而有利于生产中水质的稳定。这对超纯水产品的质量稳定性有积极的影响，有助于保证半导体产品的质量生产。

综上所述，反渗透膜在电子半导体行业的应用，可以实现超纯水的生产效率，保证产品质量的稳定性和可靠性，有助于降低生产成本和环境污染。

4. EDI system:

在生产中

EDI系统或电子去离子系统广泛应用于半导体工业。主要用于制造超纯水。

具体来说，EDI系统可以去除水中的离子，如钠、钙、镁、氯化物、硫酸盐和阴离子，从而使水的电导率非常低，并满足半导体制造过程中对水质的高要求。此外，由于EDI系统具有有效的离子去除能力，它还可以降低传统离子交换工艺的再生频率和化学消耗，从而降低运营成本和对环境的影响。

技术原理

EDI系统的技术原理主要基于离子交换膜技术和电子迁移技术。

具体而言，EDI模块将在离子/负交换膜之间充满离子交换树脂的EDI单元夹入EDI单元中，EDI单元由网状板隔开，形成水室和淡水室。在部件的两端放置阳极/阴极后，直流电将流经相应离子交换膜的正负离子推入储水室，将这些离子消除在淡水室中。加厚水室中的水可以从系统中带走离子并产生加厚水。

我们能达到什么样的结果?

EDI系统可以有效地生成超纯水。在半导体制造过程中，超纯水是清洗硅片、芯片等核心部件的重要制造要素，也是制备其他工艺流体的基础。EDI系统采用离子去除效率，可以去除水中的离子、有机物和杂质，保证超纯水的质量和稳定性，满足半导体生产质量的高要求。

5. 床面抛光系统：

在生产中

床混合抛光在半导体工业中主要应用于超纯水的生产过程中。

半导体材料生产：超纯水可以去除半导体材料表面的杂质，保证半导体材料的纯度要求，有效提高半导体芯片的性能和可靠性。

在这些技术步骤中，超纯水用于清洁半导体设备和设备，确保产品表面的清洁度，避免污染物对产品性能和可靠性的影响。抛光床混合系统可以有效去除水中的离子和有机物，确保水质达到半导体行业的高标准。

技术原理

抛光混合器的技术原理主要是基于离子交换原理。这种塑料是由特殊离子交换基团组成的聚合物化合物，在水中能表现出离子交换功能。

在半导体工业应用中，抛光混合床主要用于制备超纯水。当含有杂质离子的原水通过塑料时，塑料中的离子交换基团与这些杂质离子交换，将它们吸收到塑料中，并释放出对该过程无害的离子。通过这种方法，原水中的杂质离子通过树脂的离子交换被有效去除，从而获得高纯度的水。

我们能达到什么样的结果?

首先，它保证了超纯水的质量。超纯水在电子半导体的制造过程中是非常重要的。混合抛光能有效去除电离水、有机物等杂质，保证超纯水的质量和稳定性，满足高品质电子半导体的生产质量。

对混合床进行抛光也有助于提高生产效率。由于其离子交换效率高，性能稳定，可以减少因水质问题造成的设备生产和维修中断，保证生产过程的连续性和稳定性。

工艺流程